Atomic layer deposited high quality AlN thin films for efficient thermal management

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作者
Wangle Zhang,Jianguo Li,Jia-Bin Fang,Longfei Hui,Lijun Qin,Ting Gong,Fangyuan Sun,Hao Feng
出处
期刊:Journal of materials chemistry. A, Materials for energy and sustainability [Royal Society of Chemistry]
卷期号:11 (40): 21846-21856 被引量:2
标识
DOI:10.1039/d3ta04618d
摘要

With the development of high-power devices, thermal management has become extremely important for modern electronics.
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