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Optical and EUV projection lithography: A computational view

极紫外光刻 平版印刷术 投影(关系代数) 光学 计算光刻 材料科学 物理 多重图案 计算机科学 纳米技术 抵抗 算法 图层(电子)
作者
Andreas A. Erdmann,Tim Fühner,Peter Evanschitzky,Viviana Agudelo,Christian Freund,Przemysław Michalak,Dongbo Xu
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
卷期号:132: 21-34 被引量:40
标识
DOI:10.1016/j.mee.2014.09.011
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