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Evaluation of polishing induced subsurface damage in InAs substrates by an acid solution etching method

抛光材料科学薄脆饼蚀刻（微加工）各向同性腐蚀腐蚀基质（水族馆）化学机械平面化光学显微镜冶金复合材料纳米技术图层（电子）扫描电子显微镜地质学海洋学

作者

Yinhong Feng,Guiying Shen,Youwen Zhao,Jingming Liu,Jun Yang,Hui Xie,Jian‐Jun He

出处

期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2023-08-15 卷期号：167: 107770-107770 被引量：7

标识

DOI：10.1016/j.mssp.2023.107770

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