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UV-assisted nanoimprint lithography: the impact of the loading effect in silicon on nanoscale patterns of metalens
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制作
医学
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病理
作者
Zahrah Alnakhli,
Zhiyuan Liu,
Feras AlQatari,
Haicheng Cao,
Xiaohang Li
出处
期刊：
Nanoscale advances
[Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
卷期号：6 (11): 2954-2967
被引量：13
链接
rsc.org
rsc.org
nih.gov
nih.gov
doi.org
标识
DOI：10.1039/d4na00120f
摘要
This work studies the impact of the silicon (Si) loading effect induced by deep reactive ion etching (DRIE) of silicon master molds on the UV-nanoimprint lithography (NIL) patterning of nanofeatures.
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