Ripplocations in van der Waals Layers

Burgers向量 范德瓦尔斯力 材料科学 部分位错 凝聚态物理 结晶学 透射电子显微镜 位错 无定形固体 纳米技术 化学 物理 分子 有机化学
作者
Akihiro Kushima,Xiaofeng Qian,Peng Zhao,Sulin Zhang,Ju Li
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:15 (2): 1302-1308 被引量:142
标识
DOI:10.1021/nl5045082
摘要

Dislocations are topological line defects in three-dimensional crystals. Same-sign dislocations repel according to Frank's rule |b1 + b2|2 > |b1|2 + |b2|2. This rule is broken for dislocations in van der Waals (vdW) layers, which possess crystallographic Burgers vector as ordinary dislocations but feature "surface ripples" due to the ease of bending and weak vdW adhesion of the atomic layers. We term these line defects "ripplocations" in accordance to their dual "surface ripple" and "crystallographic dislocation" characters. Unlike conventional ripples on noncrystalline (vacuum, amorphous, or fluid) substrates, ripplocations tend to be very straight, narrow, and crystallographically oriented. The self-energy of surface ripplocations scales sublinearly with |b|, indicating that same-sign ripplocations attract and tend to merge, opposite to conventional dislocations. Using in situ transmission electron microscopy, we directly observed ripplocation generation and motion when few-layer MoS2 films were lithiated or mechanically processed. Being a new subclass of elementary defects, ripplocations are expected to be important in the processing and defect engineering of vdW layers.

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