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Atomic layer etching-enabled interface engineering for enhanced carrier transport in GaN trench MOSFETs

沟槽材料科学蚀刻（微加工） X射线光电子能谱光电子学分析化学（期刊）干法蚀刻反应离子刻蚀透射电子显微镜图层（电子）等离子体刻蚀等离子体饱和电流晶体管饱和（图论）表面粗糙度电子迁移率原子层沉积阈值电压宽禁带半导体 MOSFET 表面光洁度二次离子质谱法氮气

作者

Maoqing Ling,Jingang Li,Zheyuan Hu,Zhenghao Chen,Ping Zhang,Jie Zhang,Harm van Zalinge,Ivona Z. Mitrović,Xuelin Yang,Wen Liu

出处

期刊：Applied Surface Science [Elsevier BV]
日期：2025-11-07 卷期号：720: 165171-165171 被引量：2

标识

DOI：10.1016/j.apsusc.2025.165171

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