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Comparative study of epitaxial growth and Ni/GaN Schottky device on patterned sapphire substrates

蓝宝石 外延 材料科学 光电子学 肖特基二极管 肖特基势垒 纳米技术 光学 图层(电子) 二极管 物理 激光器
作者
Zhiwen Liang,Neng Zhang,Fengge Wang,Yanyan Xu,Xien Yang,Yisheng Liang,Xin Li,Zenghui Liu -,Li-zhang Lin,Baijun Zhang,Zhiwen Liang,Neng Zhang,Fengge Wang,Yanyan Xu,Xien Yang,Yisheng Liang,Xin Li,Zenghui Liu -,Li-zhang Lin,Baijun Zhang
出处
期刊:CrystEngComm [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:26 (6): 809-816 被引量:2
标识
DOI:10.1039/d3ce01077e
摘要

GaN epitaxial materials and Ni/Au SBDs were fabricated and discussed on different patterned sapphire substrates. The reverse bias leakage is sensitive to screw dislocations, and the screw dislocations tend to form γ-type pits on concave PSS.

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