Comparative study of epitaxial growth and Ni/GaN Schottky device on patterned sapphire substrates

蓝宝石 外延 材料科学 光电子学 肖特基二极管 肖特基势垒 纳米技术 光学 图层(电子) 二极管 物理 激光器
作者
Zhiwen Liang,Neng Zhang,Fengge Wang,Yanyan Xu,Xien Yang,Yisheng Liang,Xin Li,Zenghui Liu,Lizhang Lin,Baijun Zhang
出处
期刊:CrystEngComm [Royal Society of Chemistry]
卷期号:26 (6): 809-816 被引量:4
标识
DOI:10.1039/d3ce01077e
摘要

GaN epitaxial materials and Ni/Au SBDs were fabricated and discussed on different patterned sapphire substrates. The reverse bias leakage is sensitive to screw dislocations, and the screw dislocations tend to form γ-type pits on concave PSS.
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