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Electrical Properties of p- and n-GaSe Doped with As and Ge

作者
Shigeru Shigetomi,Tetsuo Ikari,Hiroshi Nakashima
出处
期刊:Japanese Journal of Applied Physics [Institute of Physics]
卷期号:39 (9R): 5083-5083 被引量:11
标识
DOI:10.1143/jjap.39.5083
摘要

Hall effect measurements are carried out to study the carrier transport of GaSe doped with amphoteric impurities. The p-and n-type conductions were obtained for the As- and Ge-doped samples, respectively. The carrier transports in the As- and Ge-doped samples are associated with the deep acceptor level at 0.54 eV above the valence band and the deep donor level at 0.58 eV below the conduction band, respectively.

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