PLASTIC DEFORMATION OF SILICON AT LOW TEMPERATURE AND THE INFLUENCE OF DOPING

兴奋剂 材料科学 变形(气象学) 复合材料 工程物理 光电子学 工程类
作者
J. Rabier,P. Veyssière,J. L. Démenet
出处
期刊:Journal de physique. Colloque [EDP Sciences]
卷期号:44 (C4): C4-253 被引量:19
标识
DOI:10.1051/jphyscol:1983429
摘要

Plastic deformation tests have been performed at low temperature (T<450 C) under a confining pressure in order to promote dislocation motion at temperature where samples are usually brittle. A mechanism for plastic deformation by partial dislocations has been evidenced as well as the influence of dopants on the macroscopic plastic deformation. Discrepancies between low temperature plastic deformation under confining pressure and conventional compressive tests conducted in the range of medium temperatures (400°C < T < 650°C) are discussed.

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