Molecular dynamics simulation of Si and SiO2 reactive ion etching by fluorine-rich ion species

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作者
Erin Joy Capdos Tinacba,Michiro Isobe,Kazuhiro Karahashi,Satoshi Hamaguchi
出处
期刊:Surface & Coatings Technology [Elsevier BV]
卷期号:380: 125032-125032 被引量:30
标识
DOI:10.1016/j.surfcoat.2019.125032
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