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Surface Oxidation and Reduction of CuO and Cu2O Studied Using XPS and XAES

X射线光电子能谱 退火(玻璃) 俄歇电子能谱 分析化学(期刊) 材料科学 单层 化学 超高真空 冶金 化学工程 纳米技术 色谱法 物理 工程类 有机化学 核物理学
作者
Stephen Poulston,Peter M. Parlett,Phillip J. Stone,Michael Bowker
出处
期刊:Surface and Interface Analysis [Wiley]
卷期号:24 (12): 811-820 被引量:1088
标识
DOI:10.1002/(sici)1096-9918(199611)24:12<811::aid-sia191>3.0.co;2-z
摘要

Using XPS and x-ray-excited Auger electron spectroscopy (XAES), we have studied the variation in surface composition of CuO and Cu2O with a variety of high-vacuum treatments, including vacuum annealing, oxidation and hydrogen reduction. Prolonged annealing of CuO results in the formation of a thick layer of Cu2O at the surface whilst vacuum annealing of Cu2O produces a thin (possibly one monolayer) film of Cu metal. Both bulk Cu2O and the thick Cu2O film generated from vacuum-annealed CuO were oxidized to CuO by heating at 800 K in 1×10-4 mbar O2, the original surface being regenerated with vacuum annealing at the same temperature. Both CuO and Cu2O are reduced to metal at the surface by heating in 1×10-4 mbar hydrogen at 400 K. In the case of CuO, the extent of reduction varies with the thermal history of the sample, with prolonged vacuum annealing producing a more reducible surface. Hydrogen-reduced CuO and Cu2O were both reoxidized on vacuum annealing, demonstrating the diffusion of lattice oxygen to the surface.
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