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Entropy–Driven Dual–Channel Dissipative Binder for Strain–Responsive Reinforcement and Stable Silicon Anodes

材料科学 消散 耗散系统 复合材料 阳极 钢筋 打滑(空气动力学) 纳米技术 复合数 离子键合 放松(心理学) 硬化(计算) 模数 氧化物 弹性能 柔性电子器件 智能材料 纳米复合材料 电导率 纤维素 纳米材料 动态力学分析 储能 导电体 相变 应变硬化指数 离子电导率 碳化硅
作者
Lan Zhao,Fengcai Lin,Haijun Li,Lingling Qian,Yingshan Shi,Zhiyi Cao,Xuan Yang,Biao Huang,Beili Lu,Hanyang Liu,Jianhua Lv,Xinda You,Lirong Tang
出处
期刊:Advanced Functional Materials [Wiley]
卷期号:36 (8) 被引量:3
标识
DOI:10.1002/adfm.202515461
摘要

Abstract Dissipative smart binders hold great potential for flexible electronics and energy storage, but achieving synergistic regulation between energy dissipation and structural reinforcement remains challenging, particularly in balancing high strength, tunable toughness, and multifunctional integration. Here, a dissipative smart binder with a dual‐channel responsive mechanism is developed to enable dynamic regulation of energy dissipation and rigidity enhancement through the synergistic effects of slip relaxation and conformational locking. Centered on Fe 2 ⁺/Fe 3 ⁺ dynamic coordination, the binder incorporates control via the intricate and rigid rosin architecture and a hierarchy of distinct bonding mechanisms, thereby enhancing its capacity for both rapid energy dissipation and strain‐triggered reinforcement. Sodium alginate serves as a continuous phase framework, reinforced by phosphorylated cellulose nanocrystals, conformation‐locking segments of acrylic acid rosin, and a multivalent coordination network that enables this strain‐triggered state transformation. The binder exhibits a soft‐to‐rigid transition with a strain‐rate‐sensitive hardening effect, increasing modulus up to 98 000 times and fracture energy from 104.51 to 272.34 MJ m −3 . Applied in silicon anodes, it maintains 2476.5 mA h g −1 after 100 cycles at 0.2C, with ionic conductivity reaching 25.240 mS cm −1 , an eightfold increase over the unmodified system. The composite network effectively mitigates structural degradation, binder fatigue, and interfacial instability caused by silicon volume expansion.
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