X-ray photoelectron study of annealed Co thin film on Si surface

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作者
A. Sharma,S. Tripathi,T. Shripathi
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:256 (2): 530-535 被引量:9
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2009.08.007
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