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Gate Switching Instability in Silicon Carbide MOSFETs—Part I: Experimental

碳化硅材料科学 MOSFET 光电子学不稳定性工程物理电气工程工程类物理冶金晶体管机械电压

作者

Maximilian W. Feil,Katja Waschneck,H. Reisinger,Judith Berens,Thomas Aichinger,Sven Prigann,Gregor Pobegen,Paul Salmen,Gerald Rescher,Dominic Waldhoer,Александр Николаевич Васильев,Wolfgang Gustin,Michael Waltl,Tibor Grasser

出处

期刊：IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
日期：2024-05-16 卷期号：71 (7): 4210-4217 被引量：17

标识

DOI：10.1109/ted.2024.3397636

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