Some properties of metal organic chemical vapor deposited (MOCVD) manganese nitride thin films (MnxNy) obtained using a single precursor of Tetraamminebis-(hexamethylenetetrammine) manganese (II) chloride [Mn (HMTA)2(NH3)4] Cl2

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作者
Olakunle Abiodun Akinwumi,Adetokunbo Temitope Famojuro,Kayode Oladele Olumurewa,Kehinde Folorunso Olafisan,Prisicilla O. Olaopa,Olumide Oluwole Akinwunmi
出处
期刊:Physica B-condensed Matter [Elsevier BV]
卷期号:668: 415220-415220 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.physb.2023.415220
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