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Dry etching of TaN thin film using CH4/Ar inductively coupled plasma

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作者
Jong‐Chang Woo,Chang-Il Kim
出处
期刊：Vacuum [Elsevier BV]
日期：2011-04-14 卷期号：86 (1): 1-6 被引量：10
标识
DOI：10.1016/j.vacuum.2011.03.018
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