Ferroelectricity in layered bismuth oxide down to 1 nanometer

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作者
Qianqian Yang,Jingcong Hu,Y. Fang,Yueyang Jia,Rui Yang,Shiqing Deng,Yue Lu,Oswaldo Diéguez,Longlong Fan,Dongxing Zheng,Xixiang Zhang,Yongqi Dong,Zhenlin Luo,Zhen Wang,Huanhua Wang,Manling Sui,Xianran Xing,Jun Chen,Jianjun Tian,Linxing Zhang
出处
期刊:Science [American Association for the Advancement of Science (AAAS)]
卷期号:379 (6638): 1218-1224 被引量:15
标识
DOI:10.1126/science.abm5134
摘要

Atomic-scale ferroelectrics are of great interest for high-density electronics, particularly field-effect transistors, low-power logic, and nonvolatile memories. We devised a film with a layered structure of bismuth oxide that can stabilize the ferroelectric state down to 1 nanometer through samarium bondage. This film can be grown on a variety of substrates with a cost-effective chemical solution deposition. We observed a standard ferroelectric hysteresis loop down to a thickness of ~1 nanometer. The thin films with thicknesses that range from 1 to 4.56 nanometers possess a relatively large remanent polarization from 17 to 50 microcoulombs per square centimeter. We verified the structure with first-principles calculations, which also pointed to the material being a lone pair-driven ferroelectric material. The structure design of the ultrathin ferroelectric films has great potential for the manufacturing of atomic-scale electronic devices.
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