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氧化限制型795 nm垂直腔面发射激光器
材料科学
作者
聂语葳 Nie Yuwei,
Wei Li,
吕家纲 Lü Jiagang,
潘智鹏 Pan Zhipeng,
刘素平 Liu Suping,
马骁宇 Ma Xiaoyu
出处
期刊:
Zhongguo jiguang
[Science Press]
日期:2024-01-01
卷期号:51 (6): 0601004-0601004
被引量:2
链接
opticsjournal.net
doi.org
标识
DOI:10.3788/cjl230906
摘要
单模795 nm垂直腔面发射激光器作为铷原子钟的激光光源,一般采用氧化限制结构获得单模输出。对垂直腔面发射激光器外延结构以及氧化限制孔径进行了优化设计。基于有限元分析方法,利用光纤波导理论和热电耦合模型,对氧化孔径的光学和电学限制进行了模拟,计算分析了实现单模和良好热电特性所需的氧化孔径大小。实验制备了具有不同氧化孔径的器件,并进行了功率-电流以及光谱特性测试。当氧化孔径为1.9 μm时,在3~7 mA注入电流下器件始终保持单模输出,边模抑制比大于35 dB;器件保持单模输出的最大氧化孔径为3.8 μm,室温下阈值电流为1 mA,最大饱和输出功率为2 mW,斜率效率为0.3 W/A,3 mA注入电流下的出射波长为790 nm,边模抑制比大于30 dB。制备的室温下单模特性良好的790 nm垂直腔面发射激光器,为实现高温下795 nm偏振稳定单模输出提供了可能。
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