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Process analytical chemistry in a nickel electroplating bath. Automated sequential injection for additive determination

偏最小二乘回归 电镀 化学 分析化学(期刊) 校准 探测器 电镀(地质) 工艺工程 色谱法 计算机科学 数学 有机化学 统计 电信 图层(电子) 地球物理学 工程类 地质学
作者
Miren Ostra,Carlos Ubide,Maider Vidal,Juan Zuriarrain
出处
期刊:Analytical Methods [Royal Society of Chemistry]
卷期号:3 (12): 2726-2726 被引量:6
标识
DOI:10.1039/c1ay05434a
摘要

Most of the useful parameters of a nickel electroplating bath can be monitored along the bath life. Process analytical chemistry (PAC) has been applied to follow parameters such as temperature, pH, chloride or nickel concentration. The monitoring of additives has special relevance because the final quality of finish depends on them. Two out of the four additives used in the commercial nickel bath used in this paper show UV absorption (A-5(2X) and SPB) and a sequential injection (SI) method has been developed to conduct and automatically dilute aliquots from the bath to a diode-array detector where UV spectra are acquired. Because the UV bands of the absorbing additives overlap, partial least squares (PLS) regression is used as a calibration method to resolve the mixture. A commercial software program has been used for the automated data acquisition. The program configuration and the SI manifold are given. The results obtained for additives are compared with those obtained from a manual method that is used as a reference. Mean random errors under 8% were always obtained. The limits of detection (LOD) found for A-5(2X) and SPB were 0.2 mL L−1 and 0.09 mL L−1 respectively. The SI methodology was applied with excellent results along a whole bath life and can be used to maintain the proper coating conditions.

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