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Hafnium Oxide-Based Ferroelectric Memories: Applications and Future Prospects

铁电性 材料科学 铪 氧化物 工程物理 光电子学 工程类 冶金 锆 电介质
作者
Sourav De,Gautham Kumar,Ankush Chattopadhyay,Yannick Raffel,Bhaswar Chakrabarti,Tuo‐Hung Hou
出处
期刊：Le Centre pour la Communication Scientifique Directe - HAL - Diderot 日期：2025-01-01
链接
hal.science
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