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28-nm Bulk and FDSOI Cryogenic MOSFET : (Invited Paper)

MOSFET CMOS芯片 绝缘体上的硅 低温 材料科学 表征（材料科学） 光电子学 低温学 工程物理 电气工程 电子工程 工程类 纳米技术 物理 硅 晶体管 电压 热力学 复合材料
作者
Arnout Beckers,Farzan Jazaeri,Christian Enz
链接
epfl.ch epfl.chdoi.org
标识
DOI：10.1109/cicta.2018.8706117
摘要
This paper presents an intensive overview of the characterization and modeling of advanced 28-nm bulk and FDSOI CMOS processes operating continuously from room down to deep cryogenic temperature.
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