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Electrical and materials properties of AlN/ HfO2 high-k stack with a metal gate

材料科学 氮化物 薄脆饼 堆栈（抽象数据类型） 金属 铝 钼 氧化物 图层（电子） 金属浇口 光电子学 冶金 复合材料 栅氧化层 电压 晶体管 电气工程 工程类 程序设计语言 计算机科学
作者
K. Reid,A. Dip,Sadao Sasaki,Dina H. Triyoso,S. Samavedam,D. C. Gilmer,Carolyn Gondran
出处
期刊：Thin Solid Films [Elsevier BV]
日期：2008-10-22 卷期号：517 (8): 2712-2718 被引量：8
标识
DOI：10.1016/j.tsf.2008.10.032
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