High frequency H-diamond MISFET with output power density of 182 mW/mm at 10 GHz

错配 钻石 材料科学 光电子学 截止频率 晶体管 场效应晶体管 电流密度 电介质 功率密度 电气工程 电压 功率(物理) 物理 工程类 量子力学 复合材料
作者
Xinxin Yu,Jianjun Zhou,Song Zhang,Zhengyi Cao,Yuechan Kong,Tangsheng Chen
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:115 (19) 被引量:20
标识
DOI:10.1063/1.5125771
摘要

RF power characteristics of hydrogen-terminated diamond metal-insulator-semiconductor field-effect transistors operating at 10 GHz have been reported, and an output power density of 182 mW/mm has been achieved. The diamond devices were fabricated by using a self-aligned process combined with 0.1 μm gate-length T-shaped gates. A high quality atomic layer deposition Al2O3 film with low leakage current was deposited as a gate dielectric by using H2O as the oxidant at a low temperature of 90 °C. The direct current output characteristics of the devices were measured by applying gate voltage in opposite directions, and a maximum drain current density of 741 mA/mm has been obtained. By small-signal measurements, the diamond device demonstrates a high extrinsic cutoff frequency fT of 66 GHz and a maximum frequency of oscillation fmax of 55 GHz.
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