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Black layer coatings for the photolithographic manufacture of diffraction gratings

光刻胶材料科学图层（电子）光学衍射涂层衍射光栅光电子学反射率衍射效率表面粗糙度表面光洁度复合材料栅栏物理

作者

J. A. Dobrowolski,Daniel Poitras,Tom Cassidy,C. Midwinter

出处

期刊：日期：2001-01-01 卷期号：: ThC2-ThC2

链接

canada.cadoi.org

标识

DOI：10.1364/oic.2001.thc2

摘要

A black layer coating for an Al/photoresist interface is described with a reflectance less than 0.1% for 413 nm s-polarized light incident at 25º. It is made of space-compatible materials and its RMS roughness is less than 15Å.

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