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Degradation of reactive black 5 via a Cu(ii)/NaIO4-based advanced oxidation process: response surface methodology optimization, kinetic simulation and performance enhancement

化学 降级（电信） 动能 响应面法 氧化还原 过程（计算） 化学工程 动力学 无机化学 色谱法 计算机科学 量子力学 电信 操作系统 物理 工程类
作者
Fan Bai,Yanjiao Gao,Yongbo Xiao,H. J. Yang,Jiaxin Chen,Jing Xiao
出处
期刊：New Journal of Chemistry [Royal Society of Chemistry]
日期：2025-01-01 卷期号：49 (24): 10338-10356 被引量：2
标识
DOI：10.1039/d5nj01189b
摘要
In this paper, Cu( ii )/SPI advanced oxidation technology is used to efficiently degrade dye RB5, which provides a new paradigm for advanced oxidation technology based on periodate.
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