Leakage current control of Y-HfO2 for dynamic random access memory applications via ZrO2 stacking

堆积 材料科学 电流(流体) 光电子学 随机存取 动态随机存取存储器 工程物理 计算机科学 电气工程 核磁共振 计算机硬件 操作系统 半导体存储器 工程类 物理
作者
Young U. Ryu,Hansol Oh,Inchun Hwang,Yongjoo Park,Youngjin Kim,Woojin Jeon
出处
期刊:Ceramics International [Elsevier BV]
卷期号:50 (21): 41483-41489 被引量:5
标识
DOI:10.1016/j.ceramint.2024.07.464
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