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Comparative study of SiO2 thin films deposited by RF magnetron sputtering and reactive HiPIMS: Effects of sputtering power and pulse-on time

材料科学 溅射 薄膜 溅射沉积 光电子学 高功率脉冲磁控溅射 功率（物理） 腔磁控管 射频功率放大器 沉积（地质）
作者
Jin-Yu Shih,Fan-Yi Ouyang
出处
期刊：Vacuum [Elsevier BV]
日期：2026-05-27 卷期号：252: 115512-115512
标识
DOI：10.1016/j.vacuum.2026.115512
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