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作者
O. Zabeida,Richard Vernhes,Thomas Poirié,Sebastien Chiarotto,Karin Scherer,Thomas Schmitt,В. І. Марушка,J.E. Klemberg-Sapieha,L. Martinů
出处
期刊：
日期：2013-01-01
卷期号：: ThA.4-ThA.4
被引量：5
标识
DOI：10.1364/oic.2013.tha.4
摘要
Hybrid SiOCH films were deposited in a standard box coater fitted with a broad beam ion source. The effect of process parameters on the deposition rate, the optical and mechanical properties and environmental stability of the deposited films were investigated.
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