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作者
Jin‐Hong Kim,Andrey E. Mironov,Dane J. Sievers,Sung‐Jin Park,J. G. Eden
出处
期刊：Conference on Lasers and Electro-Optics
日期：2021-01-01
卷期号：3: JTu3A.86-JTu3A.86
被引量：1
标识
DOI：10.1364/cleo_at.2021.jtu3a.86
摘要
Microplasma arrays assisted atomic layer deposition (MALD) have been used to deposit gallium oxide (Ga 2 O 3 ) thin film on the rigid and flexible substrate in order to fabricate deep-ultraviolet (DUV) photodetector under 254 nm illumination.
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