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Oxidation of GaAs substrates to enable β-Ga2O3 films for sensors and optoelectronic devices

材料科学 光电子学 薄脆饼 纳米线 砷化镓 薄膜 带隙 肖特基势垒 宽禁带半导体 光电导性 肖特基二极管 纳米技术 二极管
作者
J. M. Woodall,Maidul Islam,Ahmet Kaya,Daniel M. Dryden,Howard Mao,Badriyah Alhalaili
标识
DOI:10.1117/12.2278843
摘要

A very simple and inexpensive method for growing β-Ga2O3 films by heating GaAs wafers at high temperature in a furnace was found to contribute to large-area, high-quality β-Ga2O3 nanoscale thin films as well as nanowires depending on the growth conditions. We present the material characterization results including the optical band gap, Schottky barrier height with metal (gold), field ionization and photoconductance of β-Ga2O3 film and nanowires.

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