UHV arc for high quality film deposition

作者
R. Russo,A. Cianchi,Yu H Akhmadeev,L. Catàni,J. Langner,J. Lorkiewicz,Riccardo Polini,B. Ruggiero,Marek J. Sadowski,S. Tazzari,N. N. Koval
出处
期刊:Surface & Coatings Technology [Elsevier BV]
卷期号:201 (7): 3987-3992 被引量:22
标识
DOI:10.1016/j.surfcoat.2006.08.017

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