Controllable growth of two-dimensional h-GaTe with screw dislocations

材料科学 结晶学 光电子学 化学
作者
Jingyao Wang,Yuxiang Liu,Zhitao Wu,Peiyao Xiao,X. Liang,Dongfei Wang,Wende Xiao
出处
期刊:CrystEngComm [Royal Society of Chemistry]
卷期号:27 (9): 1341-1345
标识
DOI:10.1039/d4ce01305k
摘要

Using molecular beam epitaxy (MBE), h-GaTe thin films were successfully grown on highly oriented pyrolytic graphite (HOPG) substrates by co-deposition of Ga and Te.
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