Low-Resistance Cu–Cu Bonding With the Formic Acid-Treated Co Passivation Layer

钝化 图层(电子) 材料科学 甲酸 铜 冶金 复合材料 化学 色谱法
作者
Yun-Hao Shao,Guo-liang CHEN,Xinwei Wu,Haijiao Xie,Xin-Ping Qu
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:: 1-7
标识
DOI:10.1109/ted.2025.3570671
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