Magnetron sputtering issues concerning growth of magnetic films: a technical approach to background, solutions, and outlook

溅射 高功率脉冲磁控溅射 溅射沉积 等离子体 材料科学 薄膜 光电子学 纳米技术 物理 核物理学
作者
Ali Kosari Mehr,Abbas Kosari Mehr
出处
期刊:Applied Physics A [Springer Science+Business Media]
卷期号:129 (9) 被引量:19
标识
DOI:10.1007/s00339-023-06945-y
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