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SnSe/MoS2 van der Waals Heterostructure Junction Field‐Effect Transistors with Nearly Ideal Subthreshold Slope

JFET公司 材料科学 光电子学 异质结 晶体管 范德瓦尔斯力 阈下斜率 场效应晶体管 二极管 电介质 半导体 电压 电气工程 物理 工程类 量子力学 分子
作者
Jian Guo,Laiyuan Wang,You Yu,Peiqi Wang,Yu Huang,Xiangfeng Duan
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:31 (49) 被引量:49
标识
DOI:10.1002/adma.201902962
摘要

Abstract The minimization of the subthreshold swing (SS) in transistors is essential for low‐voltage operation and lower power consumption, both critical for mobile devices and internet of things (IoT) devices. The conventional metal‐oxide‐semiconductor field‐effect transistor requires sophisticated dielectric engineering to achieve nearly ideal SS (60 mV dec −1 at room temperature). However, another type of transistor, the junction field‐effect transistor (JFET) is free of dielectric layer and can reach the theoretical SS limit without complicated dielectric engineering. The construction of a 2D SnSe/MoS 2 van der Waals (vdW) heterostructure‐based JFET with nearly ideal SS is reported. It is shown that the SnSe/MoS 2 vdW heterostructure exhibits excellent p–n diode rectifying characteristics with low saturate current. Using the SnSe as the gate and MoS 2 as the channel, the SnSe/MoS 2 vdW heterostructure exhibit well‐behavioured n‐channel JFET characteristics with a small pinch‐off voltage V P of −0.25 V, nearly ideal subthreshold swing SS of 60.3 mV dec −1 and high ON/OFF ratio over 10 6 , demonstrating excellent electronic performance especially in the subthreshold regime.
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