Arc‐Melting to Narrow the Bandgap of Oxide Semiconductors

材料科学 电弧熔炼 弧(几何) 氧化物 带隙 半导体 光电子学 纳米技术 冶金 微观结构 机械工程 工程类
作者
Gang Ou,Dongke Li,Wei Pan,Qinghua Zhang,Ben Xu,Lin Gu,Ce‐Wen Nan,Hui Wu
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:27 (16): 2589-2594 被引量:54
标识
DOI:10.1002/adma.201405763
摘要

The bandgap of a series of oxide semiconductors is narrowed by a quick and facile arc-melting method. A defective structure is formed in the fast melting and cooling process without changing its phase structure. Enhanced optical and electrical properties are found in the arc-melted oxide, such as enhanced photocatalytic properties of the arc-melted ZnO under visible light.
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