On the Origin of the Methyl Radical Loss from Deprotonated Ferulic and Isoferulic Acids: Electronic Excitation of a Transient Structure

化学 阿魏酸 脱质子化 瞬态(计算机编程) 激发 电子结构 有机化学 光化学 立体化学 计算化学 色谱法 离子 计算机科学 操作系统 电气工程 工程类
作者
Xiaoping Zhang,Fei Li,Huiqing Lv,Yanqing Wu,Gaofeng Bian,Kezhi Jiang
出处
期刊:Journal of the American Society for Mass Spectrometry [American Chemical Society]
卷期号:24 (6): 941-948 被引量:16
标识
DOI:10.1007/s13361-013-0604-2
摘要

Formation of radical fragments from even-electron ions is an exception to the "even-electron rule". In this work, ferulic acid (FA) and isoferulic acid (IFA) were used as the model compounds to probe the fragmentation mechanisms and the isomeric effects on homolytic cleavage. Elimination of methyl radical and CO2 are the two competing reactions observed in the CID-MS of [FA - H](-) and [IFA - H](-), of which losing methyl radical violates the "even-electron rule". The relative intensity of their product ions is significantly different, and thereby the two isomeric compounds can be differentiated by tandem MS. Theoretical calculations indicate that both the singlet-triplet gap and the excitation energy decrease in the transient structures, as the breaking C-O bond is lengthened. The methyl radical elimination has been rationalized as the intramolecular electronic excitation of a transient structure with an elongating C-O bond. The potential energy diagrams, completed by the addition of the energy barrier of the radical elimination, have provided a reasonable explanation of the different CID-MS behaviors of [FA - H](-) and [IFA - H](-).
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