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光电子学 过程(计算) 像素 材料科学 光强度 强度(物理) 动态范围 光学 电子工程 计算机科学 物理 工程类 操作系统
作者
Hang Xu,Jianbin Guo,Tianyang Feng,Peng Liao,Yafen Yang,Qingqing Sun,David Wei Zhang
出处
期刊:IEEE Electron Device Letters [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:46 (3): 448-451
标识
DOI:10.1109/led.2025.3531434
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