A method to restrain the charging effect on an insulating substrate in high energy electron beam lithography

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标题	A method to restrain the charging effect on an insulating substrate in high energy electron beam lithography
网址	https://doi.org/10.1088/1674-4926/35/12/126002
DOI	10.1088/1674-4926/35/12/126002 doi
其它	期刊：Journal of Semiconductors 作者：Mingyan Yu; Shirui Zhao; Yupeng Jing; Yunbo Shi; Baoqin Chen 出版日期：2014
求助人	柏不斜在 2026-05-25 11:27:11 发布自北京，悬赏 10 积分
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