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Mechanism and Effect of 4-Level RF Pulsing on Etching Process in Advanced Node
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网址
https://doi.org/10.1109/cstic64481.2025.11017974
DOI
10.1109/cstic64481.2025.11017974 doi
其它 期刊：
作者：Yang Ding; Ze He; Lei Ye; Wei Xiao; Minxiang Wang; et al
出版日期：2025-03-24
求助人
waye131 在 2025-10-11 18:20:30 发布自上海，悬赏 10 积分
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