Mitigation of implantation-induced channeling suppression in 4H-SiC by sequential ion implantation with intermediate annealing

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标题	Mitigation of implantation-induced channeling suppression in 4H-SiC by sequential ion implantation with intermediate annealing
网址	http://dx.doi.org/10.35848/1347-4065/aea7ec
DOI	10.35848/1347-4065/aea7ec doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Takeyoshi Masuda; Yu Saito; Heiji Watanabe 出版日期：2026-09-30
求助人	徐一一在 2026-10-12 10:43:10 发布自北京，悬赏 10 积分
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