| 标题 |
 Reduction of systematic defects through machine learning from design to fab 相关领域
可制造性设计
计算机科学
限制
机器学习
光学接近校正
抵抗
还原（数学）
人工智能
过程（计算）
平版印刷术
可靠性工程
工程类
纳米技术
材料科学
机械工程
几何学
数学
图层（电子）
操作系统
光电子学
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| 其它 |
期刊： 作者：Yuansheng Ma; Le Hong; James Word; Fan Jiang; Vlad Liubich; et al 出版日期：2020-03-23 |
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