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标题
Dielectric Material and Thermal Optimization in Sidewall Spacer Design for Junctionless Nanosheet FETs at sub- 5 nm Technology Node: An Insight into Device and Circuit Performance
亚5 nm技术节点无结纳米片FET侧壁间隔物设计中的介电材料和热优化：器件和电路性能的洞察
相关领域
纳米片 材料科学 电介质 节点（物理） 光电子学 热的 纳米技术 声学 物理 气象学
网址
https://doi.org/10.1149/2162-8777/ad80ca
DOI
10.1149/2162-8777/ad80ca doi
其它 期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology
作者：Vanitha Indhur; Umamaheshwari Dupati; Manasa Lakkarasu; sravya sanga; Sresta Valasa; et al
出版日期：2024-09-27
求助人
无辜豪英 在 2025-08-04 22:09:38 发布，悬赏 10 积分
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