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Argon and oxygen pressure influence on the properties of NiO films deposited by magnetron sputtering in layer-by-layer growth regime
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网址
https://doi.org/10.1016/j.physb.2024.415740
DOI
10.1016/j.physb.2024.415740 doi
其它 期刊：Physica B Condensed Matter
作者：Vitalii Karpyna; А. І. Євтушенко; О.І. Bykov; О.F. Kolomys; V. V. Strelchuk; et al
出版日期：2024-02-01
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spinarm 在 2026-01-19 11:41:20 发布自福建，悬赏 10 积分
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