Highly Selective Isotropic Etching of Si to SiGe Using CF4/O2/N2 Plasma for Advanced GAA Nanosheet Transistor - 科研通

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标题	Highly Selective Isotropic Etching of Si to SiGe Using CF4/O2/N2 Plasma for Advanced GAA Nanosheet Transistor
网址	http://dx.doi.org/10.3390/nano15191469
DOI	10.3390/nano15191469 doi
求助人	Nixxx 在 2026-03-31 21:32:36 发布自广东，悬赏 10 积分
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