| 标题 |
  Direct thermal atomic layer deposition of high-κ dielectrics on monolayer MoS2: nucleation and growth 单层MoS2上高κ电介质的直接热原子层沉积：成核与生长
相关领域
成核
单层
图层（电子）
材料科学
原子层沉积
电介质
沉积（地质）
热的
高-κ电介质
纳米技术
化学工程
化学物理
工程物理
光电子学
化学
热力学
物理
有机化学
地质学
工程类
古生物学
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Nanoscale 作者：Brendan F. M. Healy; Sophie L. Pain; Nicholas E. Grant; John D. Murphy 出版日期：2025-06-12 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Copyright
Kao
无极微光
潇洒的惋清
Nole
学术文献互助
cdercder
魔法屎尿屁
Zephyrite
务实狗
arniu2008
蓝天
OK
GingerF
XL
行走的荷尔蒙
sagitar
Nexus
雪满头
核桃
皖公网安备34019202002308
