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标题
Origin of high carrier concentration in amorphous wide-bandgap oxides: Role of disorder in defect formation and electron localization in In2O3−x
非晶宽带隙氧化物中高载流子浓度的起源：无序在In2O3-x中缺陷形成和电子局域化中的作用
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1063/1.5144219
DOI
10.1063/1.5144219 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Julia E. Medvedeva; И. А. Журавлев; C. Burris; D. Bruce Buchholz; M. Grayson; et al
出版日期：2020-05-01
求助人
无私追命 在 2025-12-09 15:31:18 发布自美国，悬赏 10 积分
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