| 标题 |
Cu2O: Electrodeposition and Characterization Cu2O:电沉积和表征
相关领域
带隙
氧化物
微晶
沉积(地质)
纳米孔
材料科学
半导体
表征(材料科学)
化学工程
吸收(声学)
基质(化学分析)
纳米技术
无机化学
分析化学(期刊)
光电子学
化学
冶金
复合材料
工程类
古生物学
生物
色谱法
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Chemistry of Materials 作者:Petra E. de Jongh; Daniël Vanmaekelbergh; John J. Kelly 出版日期:1999-12-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)