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标题
Tri-Layer Mask Dry Etch Process Optimizing and Wet Effect for Straight Profile
直型面三层掩模干法刻蚀工艺优化及湿法效应
相关领域
材料科学 光刻胶 缩颈 钝化 制作 抵抗 干法蚀刻 平版印刷术 光刻 图层（电子） 蚀刻（微加工） 等离子体 光电子学 收缩率 复合材料 物理 病理 医学 量子力学 替代医学
网址
https://doi.org/10.1109/CSTIC55103.2022.9856847
DOI
10.1109/CSTIC55103.2022.9856847 doi
其它 期刊：
作者：Xiaobing Liu; Shaojian Hu; Haihua Chen; Haojun Huang; YuShu Yang
出版日期：2022-06-20
求助人
waye131 在 2025-11-27 19:25:10 发布自上海，悬赏 10 积分
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  • 7小时前

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  • 7小时前

    waye131 waye131 Lv4 求助人 发起了本次求助

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