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标题
Photosensitive polyimide with high pattern stability and low thermal expansion coefficient based on poly (amic acid) containing dual cross-linked groups
基于含有双交联基团的聚酰胺酸的具有高图案稳定性和低热膨胀系数的光敏聚酰亚胺
相关领域
聚酰亚胺 材料科学 热稳定性 热膨胀 对偶（语法数字） 复合材料 高分子化学 化学工程 有机化学 化学 文学类 工程类 艺术 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1177/09540083251322534
DOI
10.1177/09540083251322534 doi
其它 期刊：High Performance Polymers
作者：Lei Zhou; Shengyu Chen; Chentao Fei; Yonggang Min
出版日期：2025-03-20
求助人
li 在 2026-01-03 09:40:53 发布自广东，悬赏 10 积分
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